二氧化氯發(fā)生器簡介

一、二氧化氯發(fā)生器簡介

二氧化氯發(fā)生器是由供料系統(tǒng)、反應系統(tǒng)、安全系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)和吸收投加系統(tǒng)組成，是一種操作簡單、高轉化率、高純度、多用途、環(huán)保型化學法中、小型二氧化氯多級發(fā)生器。這種二氧化氯發(fā)生器，是由釜式反應器通過耐酸導管和水射式真空機組組成。釜式反應器采用的是兩級或多級反應器，主反應釜內設有空氣分布器，副反應釜設置了平衡管，使反應更*，反應后的殘液可達標排放。生成的二氧化氯制得水溶液，也可以制得穩(wěn)定二氧化氯溶液。

                                                                                         二氧化氯發(fā)生器（1）

二、二氧化氯發(fā)生器的類別及反應原理

二氧化氯發(fā)生器格按設備的二氧化氯產量(g/h)區(qū)分確定。二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器的規(guī)格按設備的有效氯產量(g/h)區(qū)分確定。可分為兩類：

一類是高純二氧化氯消毒劑發(fā)生器，它的使用原料為亞氯酸鈉(工業(yè)一級品，含量≥85%)工業(yè)合成鹽酸(濃度≥31%)或濃硫酸(工業(yè)一級品，濃度83.0±2.0%)氯酸鈉(工業(yè)一級品，含量≥99%)*(工業(yè)合格品，含量≥27.5%) 次氯酸鈉 10%，

反應原理是5NaCLO2+4HCL=4CLO2+5NaCL+2H 2O或 2NaCLO3+H2O2+H2SO4=2CLO2+Na2SO4+O2+2H2O

2NaCLO2+NaCLO+2HCL=2CLO2+3NaCL+H2O

另一類是二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器（純二氧化氯消毒劑發(fā)生器生成物的為二氧化氯，而二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器生成二氧化氯和氯氣等混合溶液），它的使用原料為氯酸鈉(工業(yè)一級品，含量≥99%)工業(yè)合成鹽酸(濃度≥31%)，

反應原理是NaCLO3+2HCL=CLO2+1/2CL2+NaCL+H2O

                                                                                                                        二氧化氯發(fā)生器反應原理圖

三、二氧化氯發(fā)生器的適用范圍

1、各種場合下的生活、飲用、自來水的消毒;

2、餐廳、賓館、家庭、餐具衛(wèi)生設施的滅菌消毒和空氣環(huán)境消毒等。

3、食品、飲料廠、發(fā)酵工業(yè)的設備、管道、容器的最終滅菌消毒。

4、乳品廠、屠宰場的管道、設施及環(huán)境的滅菌處理;

5、醫(yī)院污水的滅菌消毒處理;

6、游泳池、工業(yè)循環(huán)水、浴池水的滅菌消毒;

7、醫(yī)院、衛(wèi)生、臨床器械的消毒、滅菌、除臭的防霉處理;

8、家庭、賓館、飯店、水果蔬菜、魚肉等食品的保鮮及最終淋洗消毒;

9、配置各種口腔消毒液、除臭劑及創(chuàng)口清洗液等。

10、廢水回用中的滅菌及脫臭;

11、面粉與各種食品的漂白劑;

12、造紙、印染行業(yè)的漂白藥劑;

13、電鍍含氰廢水的破氰處理、印染廢水的脫色處理，工業(yè)徨冷卻水的除藻滅菌處理。

                                                                                     二氧化氯發(fā)生器（2）

四、二氧化氯發(fā)生器種類

（1）ZT 正壓型二氧化氯發(fā)生器

（2）ZT 標準型二氧化氯發(fā)生器

（3）ZT 一體型二氧化氯發(fā)生器

（4）ZT 緩釋消毒劑

（5）ZT AB劑消毒劑

                                                                                     二氧化氯發(fā)生器（3）

五、二氧化氯發(fā)生器安裝規(guī)范

（1）發(fā)生器與配電裝置宜分室放置，房間內應有AC220V交流電源

（2）發(fā)生器產生的氫氣應排出室外，其關口應遠離火源，操作間照明用安全防爆燈，室內應具有良好的通風設施。

（3）發(fā)生器有進水口接口，出消毒液接口，外接管路直徑應與之一致，消毒液口需裝一止回閥。

（4）進水管路可用鐵管或塑料管，出藥管路須用聚氯乙烯或ABS塑料管。

（5）發(fā)生器旁應有給水排水設施。

（6）注意設備接地保護等問題。設備間內應有排水設施。且設備間應設簡單防腐地面。

（7）應有大于0.3Mpa的自來水水源。